roboforum.ru

kochevnik писал(а):Ну так йод даст тот же эффект и желтизны и уменьшит проникающую способность.

Но тут есть один интересный момент - на стандартных диодах у меня деталь с внутренними каналами 1х1мм получилась на этом полимере и ничего не пересветило

Да, я наблюдал похожий эффект на DLP и это привело меня к богохульным мыслям о том, что большая мощность есть зло. Нас учат, что надо брать самый мощный проектор, и в тоже время, ювелирные полимеры должны быть с высокой концентрацией красителя, чтобы победить паразитную засветку. Если вдуматься, то тут есть некое противоречие: сначала мы берем максимальную мощность и вдуваем ее в полимер, и в тоже время пытаемся ее поглотить на возможно меньшем расстоянии от границы кадра. Так может, стоит мощность уменьшать, чтобы легче было её поглотить/рассеить? Я пробовал светить проектором через поляризационный фильтр. Время возрастало в 2.5 раза. По ХУ не увидел существенной разницы, а вот по Z улучшение было заметно невооруженным глазом. Думаю, сказанное справедливо и для LCD. Пока нет времени на дальнейшие исследования в этой области, но я к ним обязательно вернусь.
P.S. А свой проектор я давно перевел в экономичный режим (70% мощности).

а что именно улучшилось?

Тестовая плоская деталь на поддержках стала ближе по толщине к заданной.

Добавлено спустя 9 минут 9 секунд:
Да, еще вспомнил. Печатал энкодер (см. вложение) одним и тем же полимером на малой и большой областях печати (точных цифр не помню, примерно 50 и 90 микрон). Результат на 90 был лучше, чем на 50, хотя разрешение хуже. Из-за высокой удельной мощности щели энкодера слиплись. Кстати, на малых областях еще и удельная мощность черного фона заметно выше, которая суммируется с "аурой" вокруг кадра.

с ес500 и эпик таких багов нет

Ну так это полимеры другого класса. Там и механизм борьбы с засветкой другой. Мы тут всё больше с бюджетными вариантами играемся.

Решил забить пока на прозрачные и взялся за фантуду. Индастриал блэк 100 микрон, засветка сегментов 10/8/6/4/3с. Тк 3с оказались вполне засвечены, запустил новый тест, от 4с до 1с

Добавлено спустя 53 секунды:
Вот

Добавлено спустя 2 часа 34 минуты 56 секунд:
Башенка тестовая 24мм за 44 минуты в 100 микрон. Пытаюсь ускорить. Хочется 25 минут, но и в 30 если впишусь, то будет хорошо

Добавлено спустя 1 минуту 18 секунд:


Добавлено спустя 29 минут 14 секунд:
В общем раз уж все равно сам с собой общаюсь. В итоге средняя скорость - 75 секунд на миллимерт или 12,5 минут на сантиметр при 100 микронах. В итоге на башню в 24мм уходит пол часа. Считаю на сегодня это хорошей скоростью. Может позже еще вернусь к прозрачным.

kochevnik писал(а):Индастриал блэк 100 микрон, засветка сегментов 10/8/6/4/3с. Тк 3с оказались вполне засвечены, запустил новый тест, от 4с до 1с

kochevnik, а как такой тест сделать? В какой программе?

Pol Kin писал(а):Я правильно понимаю, что файл .cws упакован ZIP-ом? Если отредактировать часть файлов, упаковать в архив и изменить расширение - прокатит?

Да, я как-то раз маленькую поддержку в труднодоступном месте так подрисовал.

Делюсь. Собрал в один файл тест времени засветки от 10с до 1с, слой 50 микрон