roboforum.ru

Ну так йод даст тот же эффект и желтизны и уменьшит проникающую способность.

Но тут есть один интересный момент - на стандартных диодах у меня деталь с внутренними каналами 1х1мм получилась на этом полимере и ничего не пересветило

kochevnik писал(а):Ну так йод даст тот же эффект и желтизны и уменьшит проникающую способность.

Но тут есть один интересный момент - на стандартных диодах у меня деталь с внутренними каналами 1х1мм получилась на этом полимере и ничего не пересветило

Да, я наблюдал похожий эффект на DLP и это привело меня к богохульным мыслям о том, что большая мощность есть зло. Нас учат, что надо брать самый мощный проектор, и в тоже время, ювелирные полимеры должны быть с высокой концентрацией красителя, чтобы победить паразитную засветку. Если вдуматься, то тут есть некое противоречие: сначала мы берем максимальную мощность и вдуваем ее в полимер, и в тоже время пытаемся ее поглотить на возможно меньшем расстоянии от границы кадра. Так может, стоит мощность уменьшать, чтобы легче было её поглотить/рассеить? Я пробовал светить проектором через поляризационный фильтр. Время возрастало в 2.5 раза. По ХУ не увидел существенной разницы, а вот по Z улучшение было заметно невооруженным глазом. Думаю, сказанное справедливо и для LCD. Пока нет времени на дальнейшие исследования в этой области, но я к ним обязательно вернусь.
P.S. А свой проектор я давно перевел в экономичный режим (70% мощности).

3DLab писал(а): а вот по Z улучшение было заметно невооруженным глазом.

а что именно улучшилось?ступеньки типа сгладились ? или?

а что именно улучшилось?

Тестовая плоская деталь на поддержках стала ближе по толщине к заданной.

Добавлено спустя 9 минут 9 секунд:
Да, еще вспомнил. Печатал энкодер (см. вложение) одним и тем же полимером на малой и большой областях печати (точных цифр не помню, примерно 50 и 90 микрон). Результат на 90 был лучше, чем на 50, хотя разрешение хуже. Из-за высокой удельной мощности щели энкодера слиплись. Кстати, на малых областях еще и удельная мощность черного фона заметно выше, которая суммируется с "аурой" вокруг кадра.

3DLab писал(а):

а что именно улучшилось?

Тестовая плоская деталь на поддержках стала ближе по толщине к заданной.

а ну это из за полимера
у меня это было с фантоду,и толше выходило ,и маленькие боковые отверстия в нижней части заплытые выходили
с ес500 и эпик таких багов нет

с ес500 и эпик таких багов нет

Ну так это полимеры другого класса. Там и механизм борьбы с засветкой другой. Мы тут всё больше с бюджетными вариантами играемся.

3DLab писал(а):

с ес500 и эпик таких багов нет

Ну так это полимеры другого класса. Там и механизм борьбы с засветкой другой. Мы тут всё больше с бюджетными вариантами играемся.

кстати,что интересно у ес 500 есть паразитная засветка по х/у но очень маленькая
напрмер , норм засветка 8 сек, если дать 9 сек то чуть чуть идет пересвет по х/у,если еще 1 сек добавить то еще больше,а по z все в норме
а эпик что 8 дать что 14 дать ,ничего не происходит ,только крепче липнет к пленке,и отлипает с треском хрустом

Решил забить пока на прозрачные и взялся за фантуду. Индастриал блэк 100 микрон, засветка сегментов 10/8/6/4/3с. Тк 3с оказались вполне засвечены, запустил новый тест, от 4с до 1с

Добавлено спустя 53 секунды:
Вот

Добавлено спустя 2 часа 34 минуты 56 секунд:
Башенка тестовая 24мм за 44 минуты в 100 микрон. Пытаюсь ускорить. Хочется 25 минут, но и в 30 если впишусь, то будет хорошо

Добавлено спустя 1 минуту 18 секунд:


Добавлено спустя 29 минут 14 секунд:
В общем раз уж все равно сам с собой общаюсь. В итоге средняя скорость - 75 секунд на миллимерт или 12,5 минут на сантиметр при 100 микронах. В итоге на башню в 24мм уходит пол часа. Считаю на сегодня это хорошей скоростью. Может позже еще вернусь к прозрачным.

Я правильно понимаю, что файл .cws упакован ZIP-ом? Если отредактировать часть файлов, упаковать в архив и изменить расширение - прокатит?

kochevnik писал(а):Индастриал блэк 100 микрон, засветка сегментов 10/8/6/4/3с. Тк 3с оказались вполне засвечены, запустил новый тест, от 4с до 1с

kochevnik, а как такой тест сделать? В какой программе?

ПОМОГИТЕ ПОДКЛЮЧИТЬ MKS GEN V1.4

Pol Kin писал(а):Я правильно понимаю, что файл .cws упакован ZIP-ом? Если отредактировать часть файлов, упаковать в архив и изменить расширение - прокатит?

Да, я как-то раз маленькую поддержку в труднодоступном месте так подрисовал.

modeco писал(а):

kochevnik писал(а):Индастриал блэк 100 микрон, засветка сегментов 10/8/6/4/3с. Тк 3с оказались вполне засвечены, запустил новый тест, от 4с до 1с

kochevnik, а как такой тест сделать? В какой программе?

креатион воркшоп.

Делюсь. Собрал в один файл тест времени засветки от 10с до 1с, слой 50 микрон

Несколько дней читал эту тему от самого начала до конца! Очень дельный форум, многое здесь подчеркнул. Есть у меня мысль все-таки на счет линзы Френеля и одного диода, тут у одного из активных участников форума есть прибор, способный измерить длину волны. Возможно у кого-то есть возможность измерить насколько процентов уменьшится ультрафиолетовый поток, проходя через линзу, тогда можно будет подобрать оптимальный диод, все-таки 100Вт - это очень горячо, охлаждение может не справиться. На али линзы Френеля продаются из акрила, может кто знает, акрил сильно ли задерживает уф?